人們通常認為鹵化銀是感光材料。此外還有感光性高分子、光敏高分子。它能在光的作用下迅速發生光學反應，從而引起性質上的變化。這種變化已普遍應用于印刷、電子、涂料等工業中。感光高分子還用于制造集成電路，大規模集成電路有以微米為單位的精密圖案線條，相當于人發的幾十分之一，不可能用銅鋅板制作，而要用光敏刻蝕劑（又叫光刻膠）。用作光敏刻蝕劑的高分子材料是感光樹脂，其中之一是聚乙烯醇肉桂酸酯（它是有感光作用的功能高分子，其中的肉桂酰基是功能高分子中的功能基團）。把它涂在半導體材料（如硅片）的表面，在上面覆蓋一塊掩模板（相當于印相時用的照相底片），然后用紫外線照射曝光。受紫外線照射的肉桂酰基發生二聚反應，生成難溶性的交聯高分子，沒有受紫外線照射的部分用有機溶劑洗去刻蝕劑。根據上述原理，可以制作集成電路。